logo蚀刻
❶ iphone苹果logo蚀刻怎么做的
那不叫蚀刻
那个工艺叫雷雕，利用激光器发射的高强度聚焦激光束在焦点处回 . 使材料氧化答因而对其进行加工，打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物 质,或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化 出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质, 而“刻”出痕迹,或者是通过光能烧掉部分物质, 显出所需刻蚀的图形,文字.
前者主要用于切割处理，后者原来主要用于外观处理
❷ 想问问在圆柱体不锈钢表面上刻上LOGO,需要什么工艺与机械（如下图）
你这个是化学蚀刻的，这个最快最便宜。
传统工艺：工艺是石蜡先覆盖上去，专然后用刻刀等雕刻去掉属蜡层，然后用酸腐蚀。
现代工艺：激光蚀刻技术，直接雕刻，然后上色。或者直接将有颜色的金属氧化物，融化在金属表面，理论上永不退色，不过这个成本太高了，只有工艺品、航天、军事才可能用到。
❸ 表壳上字符和LOGO图案是激光雕刻,还是蚀刻的呢
要看什么材料.激光雕刻,只能真对非金属材料.如果是金属材料有的是LOGO图案是在模具上做好的.有的就是用电脑雕刻加工的.蚀刻也能做到只是不能太深.没有雕刻的效果明显.
❹ 有激光蚀刻上去的相应的logo是什么啊，是不是凹陷的字体，在那个一块一块的东西上。，要买了问问了解好再
不完全是这抄样。激光饰刻的东西（激光打标机）在产品表面作用时，有时是利用激光的热能烧熔材料而产生“刻”痕的标识，这种标识基本是凹陷的；也有时是利用材料本身遇到激光照射后发生化学变化而产品标识的，不一定是凹陷的
❺ 可以蚀刻超薄金属LOGO吗
可以，蚀刻超薄金属LOGO需要完备的蚀刻生产线，不能用手工操作。相关的生产过程管控需要更严格。对于超薄金属材料的LOGO，在蚀刻线内要防止打折，卷曲。
❻ 激光镭雕logo与蚀刻logo、丝印logo有什么区分
激光镭射雕刻技术是激光加工最大的应用领域之一。镭雕是利用高能量密度的激光对工件进行局部照射，使表层材料汽化或发生颜色变化的化学反应，从而留下永久性标记的一种打标方法。镭雕可以打出各种文字、符号和图案等，字符大小可以从毫米到微米量级，这对产品的防伪有特殊的意义。常被制模业忽视的一种腐蚀叫电蚀，通常被人们误当作电解作用。电蚀指的是两种不同的金属在一种腐蚀性电解液中耦合时所产生的损害。出现这种情况时，反应中惰性（不太能抵抗这种腐蚀）差的金属变为阳极（正极），它此时腐蚀的速度要比金属平时腐蚀的速度快得多；而惰性好的金属变成阴极（负极），它此时腐蚀的速度要比金属平时腐蚀的速度慢得多。丝网印刷属于孔版印刷，它与平印、凸印、凹印一起被称为四大印刷方法。
❼ 我想在大量U盘上刻上公司的logo 寻求操作方法
建议直接找做礼品U盘的商家沟通.
120个量太小,成本高.
丝印要制版,价格很高,不过可以考虑,毕竟U盘算是附属品了,Logo才是正题.缺点是用久了掉漆.
金属蚀刻,再上漆.
激光的只能打出凹痕,白刷刷的不符合要求,量小Logo大成本也高(打一排字符2毫米高10个英文大概1元,最低1000件起)
最完美的效果是做U盘外壳模具,下陷的Logo附橡胶质感的漆,掉漆都不怕,不过做个模具估计也是过千了,很不划算.
东西还没买,可以考虑买一种外壳镶嵌水晶Logo的U盘,那个水晶Logo就比较好做了打印滴胶,或者印刷,弄好了粘上去.甚至可以是类似钥匙坠那种夹层的,把Logo弄进去就行了.记得粘牢,不然"我"自己换logo了.
http://www.bmacn.com/procts/proct_photos/200609231540347795.jpg
还可以用土办法,做个镂空模板,喷漆.
激光雕个金属的,做成烙铁头,我压,这个"刻骨铭心".(此激光不是打字那种哦)
再试试找那种能到打印厚物品的打印机....
还有搞装修的美工店玻璃行,他们的技师常有新鲜工艺.金属玻璃塑料油漆,他们是行家.喷绘之前他们都用机器刻字粘展示板的,挺便宜.
❽ 一般工厂里标志性的LOGO是用什么材料制作的
一般工厂的LOGO主要选用金属材料、亚克力材料或者树脂材料进行制作。
金属LOGO标牌主版要以铜、铁、铝、权锌合金、铅锡合金等原材料为基础，通过冲压、压铸、蚀刻、印刷、珐琅、仿珐琅、烤漆等工艺，制作而成。
亚克力LOGO刻制标牌：一般是指用回转锯或垂直锯从亚克力板或其他板块上刻出文字或图案的手段。橡胶板材贴丙稀酸的板材（亚克力）是典型的材料。为了表现出小文字的立体感，丙稀酸（亚克力）材料在此方面得到充分应用。
树脂材料则可以制作立体多种颜色嵌套效果的LOGO标牌。
参考资料：
http://ke..com/view/847541.htm
http://ke..com/view/597190.htm
❾ 铝板上的LOGO字体要怎么加工凸出来
用蚀刻吧试试。
蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。专蚀刻属技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
蚀刻原理：通常所指蚀刻也称光化学蚀刻（photochemical etching），指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
工艺流程：
曝光法：工程根据图形开出备料尺寸-材料准备-材料清洗-烘干→贴膜或涂布→烘干→曝光→ 显影→烘干-蚀刻→脱膜→OK
网印法：开料→清洗板材(不锈钢其它金属材料)→丝网印→蚀刻→脱膜→OK